當前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > > 粒子物性評價系統(tǒng) > 顯微分光膜厚儀(OPTM系列)
簡要描述:顯微分光膜厚儀(OPTM系列)使用顯微光譜法在微小區(qū)域內通過反射率進行測量,可進行高精度膜厚度/光學常數(shù)分析。通過非破壞性和非接觸方式測量涂膜的厚度,例如各種膜、晶片、光學材料和多層膜。
產(chǎn)品分類
相關文章
Related Articles詳細介紹
測量目標膜的**反射率,高精度測量膜厚和光學常數(shù)!非接觸·非破壞·顯微
測量時間僅1秒!
顯微分光膜厚儀(OPTM系列)使用顯微光譜法在微小區(qū)域內通過**反射率進行測量,可進行高精度膜厚度/光學常數(shù)分析。通過非破壞性和非接觸方式測量涂膜的厚度,例如各種膜、晶片、光學材料和多層膜。 測量時間上,能達到1秒/點的高速測量,并且搭載了即使是初次使用的用戶,也可容易出分析光學常數(shù)的軟件
產(chǎn)品特點:
頭部集成了薄膜厚度測量所需功能
通過顯微光譜法測量高精度**反射率(多層膜厚度,光學常數(shù))
1點1秒高速測量
顯微分光下廣范圍的光學系統(tǒng)(紫外***近紅外)
區(qū)域傳感器的安全機制
易于分析向導,初學者也能夠進行光學常數(shù)分析
獨立測量頭對應各種inline客制化需求
支持各種自定義
測量項目:
**反射率測量
多層膜解析
光學常數(shù)分析(n:折射率,k:消光系數(shù))
應用:
半導體:晶圓樣品的自動調整,晶圓的彎曲檢測
光學元器件:鏡頭鏡片的放射率,彎曲等檢測
產(chǎn)品規(guī)格型號:
OPTM-A1 | OPTM-A2 | OPTM-A3 | |
波長范圍 | 230 ~ 800 nm | 360 ~ 1100 nm | 900 ~ 1600 nm |
膜厚范圍 | 1nm ~ 35μm | 7nm ~ 49μm | 16nm ~ 92μm |
測定時間 | 1秒 / 1點 | ||
光斑大小 | 10μm (***小約5μm) | ||
感光元件 | CCD | InGaAs | |
光源規(guī)格 | 氘燈+鹵素燈 | 鹵素燈 | |
電源規(guī)格 | AC100V±10V 750VA(自動樣品臺規(guī)格) | ||
尺寸 | 555(W) × 537(D) × 568(H) mm (自動樣品臺規(guī)格之主體部分) | ||
重量 | 約 55kg(自動樣品臺規(guī)格之主體部分) |
產(chǎn)品咨詢
技術支持:化工儀器網(wǎng) 管理登陸 sitemap.xml